🔸چین از اولین دستگاه لیتوگرافی پرتوی الکترونی (e-beam) خود با نام «شی‌ژی» (Xizhi) رونمایی کرد. این دستگاه که در دانشگاه ژجیانگ توسعه یافته، گامی مهم در تلاش‌های این کشور برای دستیابی به خودکفایی در صنعت تراشه و عبور از تحریم‌های آمریکا محسوب می‌شود.
🔸دستگاه «شی‌ژی» با استفاده از یک پرتوی الکترونی متمرکز، الگوهای مدارهای الکترونیکی را با دقتی بسیار بالا روی ویفرهای سیلیکونی حک می‌کند. این فناوری قادر است خطوطی به باریکی ۸ نانومتر را با دقت موقعیت‌یابی ۰.۶ نانومتر ایجاد کند که با استانداردهای بین‌المللی مطابقت دارد. این دستگاه که نام خود را از یک خوشنویس مشهور چینی باستان گرفته، به‌طور قابل‌توجهی ارزان‌تر از نمونه‌های وارداتی مشابه است و می‌تواند بن‌بست ایجادشده برای مؤسسات تحقیقاتی در چین را بشکند.
🔸بااین‌حال، یک محدودیت مهم وجود دارد: لیتوگرافی پرتوی الکترونی برخلاف فناوری‌های DUV و EUV، برای تولید انبوه تراشه مناسب نیست. سرعت پایین‌تر آن باعث می‌شود که این دستگاه بیشتر برای آزمایش، تحقیق‌وتوسعه و ساخت نمونه‌های اولیه کارآمد باشد تا تولید تجاری در مقیاس وسیع. بااین‌حال، این دستاورد به چین اجازه می‌دهد تا در طراحی و آزمایش تراشه‌های پیشرفته، وابستگی خود را به خارج کاهش دهد و چرخه نوآوری داخلی را تسریع کند.
فناوری
🔸🔸🔸
🟣Digiato
🎞Digiatoofficial
🤖Digiato
💭@Digiato
